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阴极电弧制备AlTiN和TiAlSiN涂层的性能及铣削性能

作者:吴雁; 王犁; 陈强; 黄彪; 张而耕; 周琼; 郑刚 上海应用技术大学上海物理气相沉积(PVD)超硬涂层及装备工程技术研究中心; 上海201418

摘要:采用阴极电弧离子镀技术在YG10硬质合金试片及铣刀上分别制备了厚度为为2.604μm和2.798μm的纳微米AlTiN和TiAlSiN涂层,采用实验方法研究涂层的微观结构、力学性能,以及涂层刀具铣削HT200时的铣削性能。实验研究结果表明:制备的AlTiN及TiAlSiN涂层的硬度分别为29.14 GPa及38.94 GPa,Si元素的添加细化涂层组织结构,TiAlSiN涂层的断面结构更为致密,涂层的硬度及耐磨性显著增加。AlTiN及TiAlSiN涂层与基体的结合强度等级分别满足工业等级的HF3、HF1要求,TiAlSiN涂层表现出较好的膜基结合性能。相较于AlTiN涂层,TiAlSiN涂层刀具表现出较小的切削力。此外,TiAlSiN涂层比AlTiN涂层拥有较好的抵抗磨损的能力。

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