用于ICF驱动器的色分离光栅的制作
作者： 中国科学院电工研究所 中国科学技术大学国家同步辐射实验室 中国科学技术大学国家同步辐射实验室 北京 中国科学院研究生院
摘要：介绍了色分离光栅的设计原理,并对其制作工艺进行了研究。用套刻法以能量为450 eV、束流密度为80 mA/cm2、30°入射角的离子束对100 mm×100 mm石英基片进行刻蚀,制作出了周期为300μm色分离光栅。实验测得零级次上3ω(351 nm)光的归一化衍射效率达到了91.9%。结果表明,这套工艺方法在制作高衍射效率的CSG是可行的,并且具有刻蚀图形分辨率高、侧壁较陡等优点,为进一步制作高衍射效率的色分离光栅提供了参考。
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微细加工技术杂志
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