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Micro And Nano Engineering SCIE

Micro And Nano Engineering

  • ISSN:2590-0072
  • ESSN:
  • 国际标准简称:Micro and Nano Engineering
  • 出版地区:Netherlands
  • 出版周期:
  • 研究方向:Engineering - Electrical and Electronic Engineering
  • 出版年份:
  • 语言:English
  • 是否OA:开放
  • 学科领域

  • 中科院分区

  • JCR分区

    Q2
  • IF影响因子

    2.8
  • 是否预警

期刊简介

Journal Title:Micro And Nano Engineering

The journal "Psychoanalytic Self and Background" (please note that there may not be a journal directly named "Psychoanalytic Self and Background", and here I provide an overview based on the common characteristics of psychoanalytic journals) is an academic journal focused on the field of psychoanalysis, dedicated to exploring individual psychological self-awareness and its interaction with social and cultural backgrounds. This magazine may be sponsored by authoritative institutions or research groups in the field of psychology, bringing together experts and scholars in the field of psychoanalysis at home and abroad to publish high-quality research papers, case studies, review articles, and cutting-edge trends.

Its content covers the theories and practices of multiple schools of thought, including Jungian analytical psychology, Freudian psychoanalysis, and deep psychology. It also emphasizes the integration of psychoanalytic theory with Chinese culture, exploring the application and development of psychoanalysis in different cultural contexts. The magazine provides an academic exchange platform to promote the dissemination and application of research results in the field of psychoanalysis, which is of great significance in advancing the development of the discipline of psychoanalysis.

中文简介

《心理分析自我与背景》杂志(请注意,直接名为《心理分析自我与背景》的杂志可能并不存在,这里我基于心理分析类杂志的普遍特点进行概述)是一本专注于心理分析领域的学术期刊,致力于探讨个体心理自我认知及其与社会、文化背景之间的相互作用。该杂志可能由心理学界的权威机构或研究团体主办,汇聚了国内外心理分析领域的专家学者,发表高质量的研究论文、个案分析、综述文章及前沿动态。

其内容涵盖荣格分析心理学、弗洛伊德精神分析、深度心理学等多个流派的理论与实践,同时注重将心理分析理论与中国文化相结合,探索心理分析在不同文化背景下的应用与发展。杂志通过提供学术交流平台,促进心理分析领域的研究成果传播与应用,对推动心理分析学科的发展具有重要意义。

期刊点评

Micro And Nano Engineering由Elsevier出版商出版,收稿方向涵盖Engineering - Electrical and Electronic Engineering全领域,平均审稿速度 14 Weeks ,影响因子指数2.8,该期刊近期没有被列入国际期刊预警名单,广大学者值得一试。

WOS分区(数据版本:2023-2024年最新版)

按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC ESCI Q2 151 / 352

57.2%

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY ESCI Q3 229 / 438

47.8%

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY ESCI Q3 89 / 140

36.8%

学科:OPTICS ESCI Q2 43 / 119

64.3%

学科:PHYSICS, APPLIED ESCI Q2 74 / 179

58.9%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC ESCI Q3 184 / 354

48.16%

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY ESCI Q3 232 / 438

47.15%

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY ESCI Q3 77 / 140

45.36%

学科:OPTICS ESCI Q3 66 / 120

45.42%

学科:PHYSICS, APPLIED ESCI Q3 95 / 179

47.21%

名词解释:
WOS即Web of Science,是全球获取学术信息的重要数据库,Web of Science包括自然科学、社会科学、艺术与人文领域的信息,来自全世界近9,000种最负盛名的高影响力研究期刊及12,000多种学术会议多学科内容。给期刊分区时会按照某一个学科领域划分,根据这一学科所有按照影响因子数值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影响因子值高的就会在高分区中,最后的划分结果分别是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表质量最高。

CiteScore分区(数据版本:2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
3.3 0.489 0.942
学科 分区 排名 百分位
大类:Engineering 小类:Electrical and Electronic Engineering Q2 394 / 797

50%

大类:Engineering 小类:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q3 117 / 224

47%

大类:Engineering 小类:Condensed Matter Physics Q3 229 / 434

47%

大类:Engineering 小类:Surfaces, Coatings and Films Q3 73 / 132

45%

大类:Engineering 小类:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 160 / 284

43%

名词解释:
CiteScore:衡量期刊所发表文献的平均受引用次数。
SJR:SCImago 期刊等级衡量经过加权后的期刊受引用次数。引用次数的加权值由施引期刊的学科领域和声望 (SJR) 决定。
SNIP:每篇文章中来源出版物的标准化影响将实际受引用情况对照期刊所属学科领域中预期的受引用情况进行衡量。

其他数据

是否OA开放访问: h-index: 年文章数:
开放 -- 60
Gold OA文章占比: 2021-2022最新影响因子(数据来源于搜索引擎): 开源占比(OA被引用占比):
100.00% 2.8
研究类文章占比:文章 ÷(文章 + 综述) 期刊收录: 中科院《国际期刊预警名单(试行)》名单:
98.33% SCIE

历年IF值(影响因子):

历年引文指标和发文量:

历年自引数据:

发文统计

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