Journal Title：Journal Of Vacuum Science & Technology B
Journal of Vacuum Science & Technology B emphasizes processing, measurement and phenomena associated with micrometer and nanometer structures and devices. Processing may include vacuum processing, plasma processing and microlithography among others, while measurement refers to a wide range of materials and device characterization methods for understanding the physics and chemistry of submicron and nanometer structures and devices.
《真空科学与技术杂志 B》侧重于微米和纳米结构及设备相关的加工、测量和现象。加工可能包括真空加工、等离子加工和微光刻等，而测量则涉及各种材料和设备表征方法，用于了解亚微米和纳米结构及设备的物理和化学性质。
Journal Of Vacuum Science & Technology B创刊于1991年，由A V S AMER INST PHYSICS出版商出版，收稿方向涵盖工程技术 - 工程：电子与电气全领域，此期刊水平偏中等偏靠后，在所属细分领域中专业影响力一般，过审相对较易，如果您文章质量佳，选择此期刊，发表机率较高。平均审稿速度 约3.0个月 ，影响因子指数1.5，该期刊近期没有被列入国际期刊预警名单，广大学者值得一试。
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程技术 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 | 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
名词解释：
中科院分区也叫中科院JCR分区，基础版分为13个大类学科，然后按照各类期刊影响因子分别将每个类别分为四个区，影响因子5%为1区，6%-20%为2区，21%-50%为3区，其余为4区。
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程技术 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 | 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程技术 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 | 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程技术 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 | 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
| 大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
| 工程技术 | 4区 | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 | 4区 4区 4区 | 否 | 否 |
| 按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 252 / 352 |
28.6% |
| 学科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 115 / 140 |
18.2% |
| 学科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q3 | 134 / 179 |
25.4% |
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
| 学科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 278 / 354 |
21.61% |
| 学科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 115 / 140 |
18.21% |
| 学科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 145 / 179 |
19.27% |
名词解释：
WOS即Web of Science，是全球获取学术信息的重要数据库，Web of Science包括自然科学、社会科学、艺术与人文领域的信息，来自全世界近9,000种最负盛名的高影响力研究期刊及12,000多种学术会议多学科内容。给期刊分区时会按照某一个学科领域划分，根据这一学科所有按照影响因子数值降序排名，然后平均分成4等份，期刊影响因子值高的就会在高分区中，最后的划分结果分别是Q1，Q2，Q3，Q4，Q1代表质量最高。
| 是否OA开放访问： | h-index： | 年文章数： |
| 未开放 | -- | 197 |
| Gold OA文章占比： | 2021-2022最新影响因子（数据来源于搜索引擎）: | 开源占比（OA被引用占比）： |
| 16.37% | 1.5 | 0.22... |
| 研究类文章占比：文章 ÷（文章 + 综述） | 期刊收录： | 中科院《国际期刊预警名单（试行）》名单： |
| 96.45% | SCIE | 否 |
历年IF值(影响因子)：
历年引文指标和发文量：
历年中科院JCR大类分区数据：
历年自引数据：
近年引用统计：
| 期刊名称 | 数量 |
| APPL PHYS LETT | 314 |
| J VAC SCI TECHNOL B | 201 |
| J APPL PHYS | 198 |
| PHYS REV B | 108 |
| J VAC SCI TECHNOL A | 80 |
| NANO LETT | 77 |
| THIN SOLID FILMS | 66 |
| APPL SURF SCI | 62 |
| MICROELECTRON ENG | 62 |
| NANOTECHNOLOGY | 62 |
近年被引用统计：
| 期刊名称 | 数量 |
| JPN J APPL PHYS | 267 |
| J APPL PHYS | 249 |
| J VAC SCI TECHNOL B | 201 |
| APPL SURF SCI | 152 |
| J VAC SCI TECHNOL A | 141 |
| ACS APPL MATER INTER | 126 |
| NANOTECHNOLOGY | 121 |
| APPL PHYS LETT | 112 |
| ECS J SOLID STATE SC | 105 |
| MATER RES EXPRESS | 94 |
近年文章引用统计：
| 文章名称 | 数量 |
| Review Article: Synthesis, prope... | 21 |
| Review Article: Atomic layer dep... | 14 |
| Tutorial on interpreting x-ray p... | 9 |
| Future prospects of fluoride bas... | 7 |
| Realizing ferroelectric Hf0.5Zr0... | 7 |
| High-density energy storage in S... | 6 |
| Minimal domain size necessary to... | 6 |
| Direct metal etch of ruthenium f... | 6 |
| Reduced twinning and surface rou... | 6 |
| Atomic force microscope integrat... | 6 |
| 同小类学科的其他优质期刊 | 影响因子 | 中科院分区 |
| International Journal Of Ventilation | 1.1 | 4区 |
| Journal Of Environmental Chemical Engineering | 7.4 | 2区 |
| Complexity | 1.7 | 4区 |
| Journal Of Energy Storage | 8.9 | 2区 |
| Chemical Engineering Journal | 13.3 | 1区 |
| International Journal Of Hydrogen Energy | 8.1 | 2区 |
| Aerospace | 2.1 | 3区 |
| Electronics | 2.6 | 3区 |
| Shock Waves | 1.7 | 4区 |
| Buildings | 3.1 | 3区 |
若用户需要出版服务，请联系出版商：A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502。
