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Journal Of Vacuum Science & Technology A SCIE

Journal Of Vacuum Science & Technology A

  • ISSN:0734-2101
  • ESSN:1520-8559
  • 国际标准简称:J VAC SCI TECHNOL A
  • 出版地区:UNITED STATES
  • 出版周期:Bimonthly
  • 研究方向:材料科学:膜 - 工程技术
  • 出版年份:1983
  • 语言:English
  • 是否OA:未开放
  • 学科领域

    材料科学
  • 中科院分区

    3区
  • JCR分区

    Q3
  • IF影响因子

    2.4
  • 是否预警

期刊简介

Journal Title:Journal Of Vacuum Science & Technology A

Journal of Vacuum Science & Technology A publishes reports of original research, letters, and review articles that focus on fundamental scientific understanding of interfaces, surfaces, plasmas and thin films and on using this understanding to advance the state-of-the-art in various technological applications.

中文简介

《真空科学与技术 A 杂志》发表原创研究报告、信件和评论文章,重点关注界面、表面、等离子体和薄膜的基本科学理解,并利用这种理解推动各种技术应用的最新发展。

期刊点评

Journal Of Vacuum Science & Technology A创刊于1983年,由AVS Science and Technology Society出版商出版,收稿方向涵盖材料科学:膜 - 工程技术全领域,此刊是中等级别的SCI期刊,所以过审相对来讲不是特别难,但是该刊专业认可度不错,仍然是一本值得选择的SCI期刊 。平均审稿速度 一般,3-6周 ,影响因子指数2.4,该期刊近期没有被列入国际期刊预警名单,广大学者值得一试。

中科院分区(数据版本:2023年12月升级版)

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 3区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 3区 3区

名词解释:
中科院分区也叫中科院JCR分区,基础版分为13个大类学科,然后按照各类期刊影响因子分别将每个类别分为四个区,影响因子5%为1区,6%-20%为2区,21%-50%为3区,其余为4区。

中科院分区(数据版本:2022年12月升级版)

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 2区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 3区 3区

中科院分区(数据版本:2021年12月旧的升级版)

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 3区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 3区 3区

中科院分区(数据版本:2021年12月基础版)

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 4区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 4区 4区

中科院分区(数据版本:2021年12月升级版)

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 3区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 3区 3区

中科院分区(数据版本:2020年12月旧的升级版)

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
材料科学 2区 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 2区 3区

WOS分区(数据版本:2023-2024年最新版)

按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 13 / 23

45.7%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 96 / 179

46.6%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 12 / 23

50%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 88 / 179

51.12%

名词解释:
WOS即Web of Science,是全球获取学术信息的重要数据库,Web of Science包括自然科学、社会科学、艺术与人文领域的信息,来自全世界近9,000种最负盛名的高影响力研究期刊及12,000多种学术会议多学科内容。给期刊分区时会按照某一个学科领域划分,根据这一学科所有按照影响因子数值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影响因子值高的就会在高分区中,最后的划分结果分别是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表质量最高。

CiteScore分区(数据版本:2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
5.1 0.569 0.957
学科 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q2 135 / 434

69%

大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces and Interfaces Q2 19 / 57

67%

大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces, Coatings and Films Q2 45 / 132

66%

名词解释:
CiteScore:衡量期刊所发表文献的平均受引用次数。
SJR:SCImago 期刊等级衡量经过加权后的期刊受引用次数。引用次数的加权值由施引期刊的学科领域和声望 (SJR) 决定。
SNIP:每篇文章中来源出版物的标准化影响将实际受引用情况对照期刊所属学科领域中预期的受引用情况进行衡量。

其他数据

是否OA开放访问: h-index: 年文章数:
未开放 100 333
Gold OA文章占比: 2021-2022最新影响因子(数据来源于搜索引擎): 开源占比(OA被引用占比):
27.03% 2.4 0.27...
研究类文章占比:文章 ÷(文章 + 综述) 期刊收录: 中科院《国际期刊预警名单(试行)》名单:
97.60% SCIE

历年IF值(影响因子):

历年引文指标和发文量:

历年中科院JCR大类分区数据:

历年自引数据:

发文统计

2023-2024国家/地区发文量统计:

国家/地区 数量
USA 368
Japan 77
GERMANY (FED REP GER) 61
South Korea 56
France 44
Sweden 33
CHINA MAINLAND 31
England 29
Finland 26
Netherlands 26

2023-2024机构发文量统计:

机构 数量
UNITED STATES DEPARTMENT OF ENER... 58
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... 30
UNITED STATES DEPARTMENT OF DEFE... 26
LINKOPING UNIVERSITY 25
UNIVERSITY OF ILLINOIS SYSTEM 24
UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM 20
CEA 18
UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM 17
UNIVERSITY SYSTEM OF MARYLAND 17
LAM RESEARCH CORPORATION 16

近年引用统计:

期刊名称 数量
J VAC SCI TECHNOL A 658
J APPL PHYS 549
APPL PHYS LETT 448
THIN SOLID FILMS 363
PHYS REV B 338
SURF COAT TECH 277
CHEM MATER 221
APPL SURF SCI 202
J ELECTROCHEM SOC 168
J VAC SCI TECHNOL B 141

近年被引用统计:

期刊名称 数量
J VAC SCI TECHNOL A 658
THIN SOLID FILMS 321
SURF COAT TECH 303
APPL SURF SCI 280
JPN J APPL PHYS 253
J APPL PHYS 217
J PHYS CHEM C 201
VACUUM 185
CHEM MATER 155
ACS APPL MATER INTER 149

近年文章引用统计:

文章名称 数量
Review Article: Stress in thin f... 72
Status and prospects of plasma-a... 26
Practical guides for x-ray photo... 23
Functional model for analysis of... 19
Review Article: Catalysts design... 16
Paradigm shift in thin-film grow... 14
Review Article: Atomic layer dep... 14
Atomic layer deposition of silic... 13
Review Article: Crystal alignmen... 12
Vapor-deposited octadecanethiol ... 11

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